双面光刻机（MA6/BA6）

适用学科：微电子、微纳加工等

主要用途：可进行双面光刻、键合预对准。

主要指标：基片尺寸：4英寸

光刻精度: 1 um

光源波长：350-450nm

光强均匀度：±5%

厂 家：德国Suss公司