低压化学气相淀积系统（L4110II-3/ZM）

主要功能：用于淀积多晶硅、二氧化硅、氮化硅等薄膜材料。

主要指标：淀积膜厚度：600～5000埃

温区长度及精度：≤±1℃／300mm

温度梯度：0～30℃／300mm可调

系统极限真空度：优于1Pa

厂 家：七星华创